DK-00009Pro現(xiàn)場金相顯微鏡

產(chǎn)品配置要求：

1 現(xiàn)場金相顯微鏡1只

2 目鏡10X 1只

3 物鏡10X 1只

4 物鏡20X 1只

5 物鏡50X 1只

6 顯微鏡充電器專用1只

7 磁性底座1只

8 小底座1只

9 深孔轉接環(huán)1只

10 萬向支架1只

11 非鐵磁性材料專用裝置1只

12 充電式微型快速金相拋磨機1只

13 拋磨機專用可充電電源1只

14 拋磨機電源專用充電器1只

15 金相拋磨機交流電源1只

16 專用金相拋磨盤(粗) 120 10只

17 專用金相拋磨盤(精) 1600 10只

18 研磨膏W2.5 4只

19 專用顯微圖像采集器1只

20 圖像采集器適配器1只

21 圖像接收器 1只

22 專業(yè)版金相軟件1套

23 軟件光盤1張

24 密碼狗1只

25 測微尺1只

26 圖像處理器(筆記本電腦)1套

27 技術資料1份

28 專用儀器箱包2只

主要技術要求：

1、制樣方法和速度：現(xiàn)場快速制樣，必須在5分鐘以內(nèi)完成打磨和拋光；無需砂紙、無需電解；

2、光路系統(tǒng)：無限遠光路系統(tǒng)，但設備仍然小巧輕便，連磁性底座重量2KG，超大景深，即使現(xiàn)場制樣不平整，傾斜15度角，仍然圖像清晰；

3、照明方式：設備須采用LED光源，節(jié)能環(huán)保；亮度大小能無極調(diào)節(jié)；主機連續(xù)工作時間不能低于40小時；

4、調(diào)焦系統(tǒng)：須帶有帶粗微調(diào)結構，以保證調(diào)焦迅速，并且須是同軸粗微調(diào)，以保證調(diào)焦平穩(wěn)；

5、鏡體現(xiàn)場適應性：鏡體大小必須能調(diào)節(jié)、觀測方向必須能自由旋轉，以確保適應現(xiàn)場復雜環(huán)境的需要。

6、自鎖裝置：須設有防自滑結構，保證磁座在吸附于豎立管道表面時不自滑；

7、底座磁力大?。捍帕ψ銐驈姶?，保證設備倒吸于天花板方向的管道也不會跌落

8、微型拋磨機轉速和方向大?。褐睆讲怀^30MM，以便于手握；打磨機頭須帶有90度轉角，以保證現(xiàn)場打磨方便；電機能正反轉，以便于提高打磨質(zhì)量

9、打磨耗材：須采用新型的專用環(huán)保材料和磨拋工藝，不可采用古老的砂紙打磨，以確保打磨快速；也不可采用電解拋光，以確保人身安全、環(huán)保和攜帶方便。

10、鏡頭指標：目鏡10X 視場范圍不低于18mm，超大景深物鏡10X，WD16.0，景深不低于4.0um； 超大景深物鏡20X, 景深不低于2.5um, WD10.5，超大景深物鏡50X, WD5.1, 景深不低于1.8um

11、采集系統(tǒng)：圖像采集采用不低于500萬像素的無線攝像頭，安卓、蘋果系統(tǒng)可作為接收器，以確?，F(xiàn)場采集圖像方便快捷并且不失真。

12、行程：X軸行程≥10mm、Y軸行程≥10mm、z軸行程≥22mm；

13、吸附形狀要求：底部應設有相關合理固定結構（比如V型槽結構），必須能使設備固定于任何大小的管道(如Φ38㎜、Φ57㎜、Φ159㎜、Φ219㎜等)之上；并且設備須配備非磁性材料固定裝置，確保設備能固定于奧氏體不銹鋼等非磁性物體之上。

14、微型拋磨機供電方式：打磨機須具有交直流兩用的功能，以確保直流電源損壞時，不影響設備工作；

15、拋磨機電源容量：保證工作不低于7小時

16、拋磨機電源工作電壓：必須在直流36V以下，以確保使用者人身安全，并須具備無極調(diào)節(jié)功能，以確保打磨質(zhì)量；

17、專用金相打磨盤粒度及尺寸： 120目，直徑20mm，

18、專用金相拋光盤粒度及尺寸： 1600目，直徑20mm，

19、圖像處理方法：全套設備中須配備I5以上的筆記本電腦，以實現(xiàn)金相圖像的現(xiàn)場軟件分析；

20、軟件分析方法: 須可以隨時升級，五年內(nèi)免費升級。

21、儀器大?。喝變x器須小巧輕便，可裝載于小包，肩背至高空。

DK-00009Pro現(xiàn)場金相顯微鏡產(chǎn)品圖片：

適用范圍：

用于電站鍋爐、管道、壓力容器及各種復雜環(huán)境下的現(xiàn)場金相檢測和分析，具有制樣快速、攜帶方便、自帶電源、磁性強大、無線傳輸、圖像清晰、自由旋轉等基本功能。